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发布时间:2020-04-07 04:55:39
有机废气处理办法知多少
ben类化合物不仅会对***的中1枢***造成一定的损害,除臭治理公司,而且还可能造成***系统的障碍,进入***后还会危害血液和造血器1官,如果情况比较严重,甚至会有出血症状或患上败1血症。氧化作用下,ben在生物体内可氧化成ben酚,从而造成肝功能异常,对骨骼的生长发育十分不利,诱发再生障1碍性贫1血。如果ben蒸汽浓度过高,安徽除臭治理,生物可能因急性中1毒而死1亡。因此,ACGIH把ben列为潜在致***物质。卤代烃类化合物会引发***症1候群和血小板的减少、肝1脾肿大等不良状况,而且很有可能致***。所以,必须控制VOC的排放,这不仅是对环境负责,也是对我们的生命健康负责。
半导体行业有机废气和***的来源
半导体制造工艺产生的挥发性有机废气,主要来源于光刻、显影、刻蚀及扩散等工序,在这些工序中要用有机溶液(如异丙1醇)对晶片表面进行清洗,其挥发产生的废气是有机废气的来源之一;同时,工业废气除臭治理,在光刻、刻蚀等过程中使用的光阻剂(光刻胶)中含有易挥发的有机1溶剂,如醋酸丁酯等,污水厂除臭治理,在晶片处理过程中也要挥发到大气中,是有机废气产生的又一来源。
与半导体制造工艺相比,半导体封装工艺产生的有机废气较为简单,主要为晶粒粘贴、封胶后烘烤过程产生的烘烤废气。
含***性废气,其来源为化学气相沉积、干蚀刻机、扩散、离子布值机及磊晶等制程时所产生。主要成分是磷1化氢、shen化氢、氯1气等。
废气治理工艺
废气治理,废气治理工程中产生的恶臭成分主要是由蛋白质、脂肪、碳水化合物的微生物呼吸、发酵过程的产物和不完全产物、一般分为一下三类:1.含硫化合物——硫1化氢、硫1化钾、甲1基硫醚等;2.含氮化合物——氨三1甲1胺;3.碳、氧或碳、氢、氧组成的化合物——低级醇、醛、脂肪酸。
恶臭气味主要产生环节在于进水格栅、调节池、曝气尘沙池、厌氧池、缺氧池、曝气池、污泥浓缩池和污泥中转等工序。
治理工艺:光催化氧化、生物氧化、活性炭吸附、低温等离子、洗涤法。
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